مقاله Silicon Nanowire Fabrication Using Hydrogenation Assisted Plasma Etching Technique

 مقاله Silicon Nanowire Fabrication Using Hydrogenation Assisted Plasma Etching Technique

… دانلود …

مقاله Silicon Nanowire Fabrication Using Hydrogenation Assisted Plasma Etching Technique دارای 2 صفحه می باشد و دارای تنظیمات در microsoft word می باشد و آماده پرینت یا چاپ است

فایل ورد مقاله Silicon Nanowire Fabrication Using Hydrogenation Assisted Plasma Etching Technique کاملا فرمت بندی و تنظیم شده در استاندارد دانشگاه و مراکز دولتی می باشد.

توجه : در صورت  مشاهده  بهم ريختگي احتمالي در متون زير ،دليل ان کپي کردن اين مطالب از داخل فایل ورد مي باشد و در فايل اصلي مقاله Silicon Nanowire Fabrication Using Hydrogenation Assisted Plasma Etching Technique،به هيچ وجه بهم ريختگي وجود ندارد


بخشی از متن مقاله Silicon Nanowire Fabrication Using Hydrogenation Assisted Plasma Etching Technique :

سال انتشار: 1386

محل انتشار: دومین کنفرانس نانوساختارها

تعداد صفحات: 2

نویسنده(ها):

A Sammak – ECE Department, University of Tehran
S Azimi, –
S Mohajerzadeh –
H Hosseinzadegan –

چکیده:

A novel method for the fabrication of silicon nanostructures on silicon substrates is reported. This technique relies on a hydrogenation-assisted high aspect ratio plasma etching of Silicon substrates capable of producing nanowires with the height of more than 15 micrometers and width of between 100nm and 600nm

نوشته شده در دسته‌بندی نشده توسط admin. افزودن پیوند یکتا به علاقمندی‌ها.